区别是光源波长不同......

一颗芯片的多次曝光付出的代价是巨大的，芯片每一次曝光贵的离谱，其实一次都够烧钱了，更别提反复曝光了，所以说曝光次数越多，芯片的量产成本越高，而且良品率也不好控制，这不管是对于台积电这样的代工方，还是高通和华为这样的客户方都是难以接受的，所以说7nm工艺用DUV光刻机不能是长期方案......