区别是光源波长不同。

　　首先要说目前并没有7nm光刻机，现在最高端光刻机是荷兰阿斯麦尔公司的euv13.5nm极紫外光光源光刻机。该类型光刻机可以用于制造22nm制程以下的芯片，包括7nm和14nm。而通常由于成本问题14nm芯片是由duv193nm深紫外光光源光刻机制造的，7nm虽然也能制造但良品率不高一般是由euv光刻机制造。总的来说7nm和14nm制程芯片是由两种不同光源波长的光刻机制造的。

　　很显然7nm光刻机比14nm的光刻机更先进。从芯片制程来看，提升了一倍，芯片的集成度也高了一倍，带来更少发热，更少耗电，更高性能等好处。

　　从光刻机本身来看，二者是相差一代的产品。很显然7纳米光刻机，在各方面都更加先进。相关国家对其控制更严。