国产光刻工厂的原理？

　　光刻工厂是半导体制造过程中的关键环节，用于制造集成电路。其原理是利用光刻机将光源通过掩模板投射到光敏材料上，形成微细图案。光敏材料在光照下发生化学反应，形成光刻胶图案。然后通过化学腐蚀或蚀刻等工艺，将图案转移到硅片上。

　　光刻工厂需要高精度的光刻机、掩模板和光敏材料，以及严格的工艺控制，确保图案的精确复制和高质量的集成电路制造。

　　光刻工厂原理？

　　光刻工厂是半导体制造过程中的关键环节，用于制造集成电路。其原理是利用光刻机将光源通过掩模板投射到光敏材料上，形成微细图案。光敏材料在光照下发生化学反应，形成光刻胶图案。然后通过化学腐蚀或蚀刻等工艺，将图案转移到硅片上。

　　光刻工厂需要高精度的光刻机、掩模板和光敏材料，以及严格的工艺控制，确保图案的精确复制和高质量的集成电路制造。