没有一纳米光刻机这种东西，所以更谈不上原理。

　　没有一纳米光刻机这种东西，也没一纳米光刻机的原理。目前全球最高端光刻机为荷兰阿斯麦尔公司的euv13.5纳米极紫外光光源光刻机，该光刻机可以用于制造22纳米以下制程的芯片。目前可量产芯片最高制程为4纳米，但并不是说光刻机是4纳米的，而是使用13.5纳米euv光刻机通过多次曝光冯技术使芯片制程达到更高制程。所以并没有一纳米光刻机，目前没有这样的技术。从原理上X射线可以做到，但X射线的穿透性使之无法用于制造光刻机。