光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。

　　用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，目前国家在积极研究和探索，相信不久的将来一定能研究制造出自己的高端光刻机。

　　究竟什么是光刻机呢，它主要做什么？

　　我们来看，光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术，它又叫掩模对准曝光机，光刻系统等，用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程，它主要的光刻工艺经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

　　换句话说，光刻机其实就是制造芯片的机器，比如现在的手机电脑都有芯片，如果没有光刻机，那么就造不出电脑和手机了。

　　目前，在全世界范围内，有能力生产光刻机的企业只有寥寥可数的几家，能自主研发生产芯片的光刻机企业也就日本的佳能、尼康和荷兰的ASML公司，即便是科技最发达的美国，目前也不能独自完整生产出光刻机，只能参与控股ASML。

　　目前全世界最顶级的光刻机是荷兰ASML公司生产制造，佳能和尼康只能生产相对低一点的光刻机，甚至目前佳能、尼康已经在逐步淡出市场。在技术方面，ASML目前领先全球，光刻机可以使用波长为13.5纳米的极紫外光（EUV），实现14纳米、10纳米、和7纳米制程的芯片生产，而通过技术升级，也可以实现9纳米，8纳米，6纳米，5纳米，4纳米乃至3纳米等制程的芯片生产。

　　光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。

　　一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

　　光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。