集成电路五大工艺?
主要分以下几个工序:
前工序
图形转换技术:主要包括光刻、刻蚀等技术;
薄膜制备技术:主要包括外延、氧化、化学气相淀积、物理气相淀积(如溅射、蒸发) 等;
掺杂技术:主要包括扩散和离子注入等技术。
后工序
划片;封装;测试;老化;筛选。
辅助工序
超净厂房技术;超纯水、高纯气体制备技术;光刻掩膜版制备技术;材料准备技术
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主要分以下几个工序:
前工序
图形转换技术:主要包括光刻、刻蚀等技术;
薄膜制备技术:主要包括外延、氧化、化学气相淀积、物理气相淀积(如溅射、蒸发) 等;
掺杂技术:主要包括扩散和离子注入等技术。
后工序
划片;封装;测试;老化;筛选。
辅助工序
超净厂房技术;超纯水、高纯气体制备技术;光刻掩膜版制备技术;材料准备技术