wac工艺技术通常用于晶圆刻蚀之后，当晶圆在工艺腔室内完成刻蚀，并且移出腔室之后，在工艺腔室中通入相应的工艺气体，然后利用工艺气体电离形成的等离子体进行腔室的无晶圆自动清洁处理，wac可以清洁腔室内刻蚀上一片晶圆的产物并预设下一片晶圆的刻蚀环境，在wac完成后传入下一片晶圆继续进行刻蚀，刻蚀后再进行wac，如此循环实现晶圆刻蚀制程的量产工作。