纳米光刻机是一种高精度的微纳米加工设备，主要应用于芯片制造、光子学器件制造以及MEMS等领域。

　　纳米光刻机是通过利用光学或电子束照射来制作微小结构的。在制作芯片时，它可以通过把图形投影到硅片上来实现芯片模板的复制，从而实现集成电路的生产。在MEMS领域，它可以制造微型传感器和执行器等微系统元件。

　　目前市场上最常见的纳米光刻机采用投影式光刻技术，其中包括接触式、非接触式和半接触式三种不同类型。接触式是将掩模直接压印在光刻胶上；非接触式则是采用间隙层技术将掩模与光刻胶分隔开来；而半接触式则是介于两者之间，在掩模与光刻胶之间设置一个定量压力的薄膜。

　　

　　纳米光刻机具有高分辨率、高精度、高通量和低成本等优点，因此已成为微电子领域中不可或缺的设备。

　　

　　

　　纳米光刻机是一种专门用于生产微小电路的高精度光刻机。它可以在极短的时间内将微小的图案投射到硅片上，从而制造出各种微型电子元件、芯片和半导体器件等。

　　没有一纳米光刻机。

　　通常说纳米是芯片的栅极宽度，目前人类已经商用的芯片可以做到4纳米。而光刻机的纳米并非如此，目前最高端的荷兰阿斯麦尔euv光刻机是13.5纳米的极紫外光，像台积电、三星这样的代工厂通过先进技术，用这个波长的极紫外光去刻制更宽度小于13.5纳米的晶体管，比如5纳米、4纳米，但光刻机依然是13.5纳米的。目前人类也没能力做一纳米光刻机。