一般来讲，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。事实上EUV光刻机的出现，确实是帮助业界突破7nm制程的一个关键。

　　当年不是传说已经翻车的武汉弘芯曾经拥有也是国内唯一一台可以用于生产7nm芯片的EUV光刻机嘛，但还没启用就拉去银行抵押贷款了。这一事件曾经一度引起业界轰动，并作为人们茶余饭后的谈资流传至今，由此可见7nm EUV光刻机是多么关键的存在。