40纳米光刻机能够生产28纳米芯片。

　　光刻机是可以通过多次曝光来实现更高制程工艺的，理论上来说55纳米光刻机通过双重曝光可以实现28纳米芯片的制作。而40纳米光刻机，是完全可以通过双重曝光的方法生产28纳米芯片的。比如中芯国际的n+1、n+2技术也是基于多重曝光的基础上的光刻加工技术。