中端光刻机投产能生产22-45纳米芯片。

　　光刻机领域按高中低端机型分类的话，高端机是13.5纳米极紫外光光源，用于生产14纳米以下制程的芯片。中低端机型是193纳米的深紫外光光源，通过技术手段，制程压缩到45纳米以下就是中端机型。我国上海微电子的28纳米光刻机就是我国首台中端光刻机。