cmos是谁最先发明的？

　　1963年，仙童半导体（Fairchild Semiconductor）的Frank Wanlass发明了CMOS电路。到了1968年，美国无线电公司（RCA）一个由亚伯·梅德温（Albert Medwin）领导的研究团队成功研发出第一个CMOS集成电路（Integrated Circuit）。

　　荷兰的光刻机是谁发明的？

　　尼埃普斯

　　1822年法国人Nicephore niepce(尼埃普斯)发明了光刻机,起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕,当其出现在了玻璃片上后,经过一段时间的暴晒,透光的部分就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。

　　1947年12月，大名鼎鼎的美国贝尔实验室的肖克利（“晶体管之父”）、巴丁和布拉顿共同研制出了一种点接触型的锗晶体管！（三人因此获得了1956年的诺贝尔物理学奖）

　　自此以后，光刻技术才有了发展的契机！

　　……

　　1958年，德州仪器的杰克·基尔比（集成电路的两位发明人之一）提出并发明了锗基底扩散工艺的集成电路！（2000年，杰克·基尔比因集成电路的发明被授予诺贝尔物理学奖，这是一个“迟到”了42年的诺贝尔物理学奖）

　　如果没有杰克·基尔比，就很难有如今的半导体产业盛况，电脑、手机等电子产品不知道牛年马月才能进入每一个家庭！

　　1959年，仙童半导体的罗伯特·诺伊斯（英特尔创始人之一）发明了硅基底平面工艺的集成电路！

　　由于硅集成电路变成了集成电路市场的主流，罗伯特·诺伊斯与杰克·基尔比，一起被誉为“集成电路之父”！

　　……

　　1956年，美国贝尔实验室用晶体管代替电子管，制成了世界上第一台全晶体管计算机！

　　随后，仙童半导体研制出了世界上第一个适用单结构硅晶片。

　　20世纪60年代，仙童半导体提出了CMOS IC（集成电路）制造工艺；

　　IBM研制出了第一台IC（集成电路）计算机IBM360；

　　美国GCA公司（美国地球物理学公司）开发出了光学图形发生器和分布重复精缩机！

　　……

　　20世纪70年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机（光刻机）！

　　20世纪80年代，SVGL（美国硅谷集团光刻系统公司）开发出了第一代步进扫描投影曝光机（光刻机）！

　　1995年，日本佳能Cano研制出了300mm晶圆曝光机（光刻机）！

　　随后，阿斯麦ASML推出步进扫描曝光机（光刻机），采用的是193nm的波长！

　　2012年，为了推进EUV极紫外光刻机等先进设备的研制，阿斯麦ASML推出了“客户联合投资专案”，英特尔、台积电、三星成为了股东，分别持有15%、5%、3%左右的股权！

　　荷兰芯片光刻机制造商阿斯麦（ASML）的两位专家，Erik Loopstra 和俄罗斯裔荷兰人Vadim Banine