28纳米光刻机不仅能用来生产28纳米芯片，更有望通过多重曝光的方式生产14纳米、10纳米、7纳米芯片，只是工艺难度加大，良率会有所降低。

　　此外，美国商务部近日发布一项临时最终规定，对芯片设计工具软件EDA进行出口管制，包括GAAFET(全栅场效应晶体管)结构集成电路所必须的ECAD软件;金刚石和氧化镓为代表的超宽禁带半导体材料等四项技术。目前全球EDA厂商大约共有六七十家，但能排在第一梯队的也就只有三家，美国Synopsys(新思科技)、美国Cadence(楷登电子)和西门子明导MentorGraphic;第二梯队的美国仿真巨头ansys、中国的华大九天等，拥有细分领域的全流程EDA工具，在某些点工具上也具有一些优势，约占全球市场份额的15%