阿斯麦大约1万6千员工中有6000名研发人员，接近四成。这个比例是与华为相似的，都是高度重视科技研发。

　　如此高比重的研发人员推动了阿斯麦的技术实力提升，逐渐在光刻（lithography）设备领域达到世界领先。

　　阿斯麦已经拥有光刻机领域的一万多项专利。而且，在45nm 以下的高端光刻机的市场中，占据80%以上的份额，尤其在极紫外光（EUV）领域，目前处于垄断地位。

　　光刻设备是半导体关键制程，阿斯麦推动了行业技术演进。光刻设备是一种投影曝光系统，由紫外光源、光学镜片、对准系统等部件组装而成。在半导体制作过程中，光刻设备会投射光束，穿过印着图案的掩模及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上；通过蚀刻曝光或未受曝光的部份来形成沟槽，然后再进行沉积、蚀刻、掺杂，架构出不同材质的线路；此制程被一再重复，就能将数以十亿计的MOSFET 或其他晶体管，建构在硅晶圆上，形成一般所称的集成电路。

　　1995年阿斯麦在NASDAQ和阿姆斯特丹交易所上市，2001年更名为ASML。公司拥有员工约16500人，其中研发人员超过6000人，研发人员占比超过36%。