现在成熟的制程工艺节点在90nm，据传一两年内将实现28nm的整机突破，光刻机的制造技术中，光源问题是相当重要的一环，分为紫外光源(UV )、深紫外光源(DUV)、极紫外光源( EUV)。

　　其中，极紫外光源的制造方法，主要的是采用将二氧化碳激光照射在锡等靶材上的办法，以此激发出13.5 nm的光子，实现EUV光源的制造。