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　　光刻胶是在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料，由感光树脂、增感剂和溶剂等组成的对光敏感的混合液体。

　　

　　光刻胶可以分为三类：光聚合型、光分解型、光交联型。

　　光刻胶材料是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。分类：光聚合型、光分解型，光交联型。

　　光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组分有：光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。

　　光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。可以按化学结构、紫外线光的特性、光刻胶能形成图形的最小光刻尺寸、曝光波长来分类，当然也可以按照行业等进行分类。

　　光刻胶按化学结构光刻胶可以分为光聚合型、光分解型、光交联型三种类型；根据紫外光的特性可以分为负性光刻胶和正性光刻胶这两类；根据光刻胶能形成图形的最小光刻尺寸来分分为传统光刻胶和化学放大光刻胶；

　　

　　按照曝光波长来分，光刻胶可分为紫外光刻胶(300～450nm)、深紫外光刻胶(160～280nm)、极紫外光刻胶(EUV，13.5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。

　　按照行业进行分类的话，可以分为平板显示行业、PCB行业、半导体集成电路制造行业。在平板显示行业主要使用的光刻胶有彩色及黑色光刻胶、LCD触摸屏用光刻胶、TFT-LCD正性光刻胶等。

　　在PCB 行业主要使用的光刻胶有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、感光阻焊油墨等。在半导体集成电路制造行业主要使用g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶等。