功率器件需要光刻机吗？

　　需要。IGBT用的光刻机都是低端的。

　　目前IGBT基本都是90nm以上制程，国内上海微电子90nm光刻机是可以做的，IGBT等功率器件芯片对制程的要求，没有逻辑芯片等集成电路芯片那么高，主流制程普遍在350nm以上，最新的制程需求是150nm, 所以对应的光刻机设备不会受到像14nm、7nm制程那样的约束。随着国内制程技术的逐步成熟，IGBT芯片制造设备（含光刻设备）的国产替代也正在加速。

　　50瓦的光刻机什么概念？

　　50瓦的光刻机是指光刻机的功率为 50 瓦特（W）。光刻机是一种半导体制造设备，用于制造集成电路、光电子器件等微纳米尺度的器件。在光刻过程中，将光源照射到光刻胶层上，并通过控制光源的光强、光斑大小和曝光时间等参数，将芯片图案的信息转移到光刻胶层上，然后通过化学腐蚀等工艺将芯片图案转移到硅片上，最终完成器件的制造。

　　光刻机的功率是指光源的输出功率，一般来说，功率越高，光刻机的曝光速度就越快，可以提高生产效率。但是功率越高，光刻机的成本也就越高，同时也会带来更高的能耗和更多的散热问题。因此，选择光刻机时需要综合考虑成本、生产效率、生产质量等因素，选择适合自己需求的设备。