光刻机光源功率为250瓦。

　　光刻机光源功率并不都相同，比如365纳米波长的有用350瓦紫外灯，这种光刻机比较老了。拿目前代表新一代光刻机主流的EUV光刻机举例。荷兰ASML公司的EUV光刻机使用的光刻技术是波长为13.5纳米的光源，功率约为250瓦。前面提到：大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础，伴随着芯片制程的不断进步，芯片代工商对EUV光源的要求将不断提升。

　　一般的光刻机功率是2kw。不同的厂家大小不一样。上海产的大概是2.2kw。